HMDS預處理烘箱在光刻工藝中的重要作用為:增強光刻膠和襯底表面的粘附力。
光刻工藝中涂膠顯影流程包括HMDS（六甲基二硅氮烷，增粘劑）預處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影和堅膜。
HMDS預處理作用:
增強光刻膠和襯底表面的粘附力;
實現方法:浸泡、涂覆、氣相處理（即HMDS烘箱）等。
HMDS預處理烘箱
JS-hmds90烘箱采用氣相沉積的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下，達到真空狀態后開始涂布工藝，涂布完成后排出尾氣，烘箱內部充入N2，達到常壓后方可開門。
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤1torr
控制儀表：人機界面，一鍵運行
儲液瓶：HMDS儲液量1000ml
真空泵：無油渦旋真空泵
數據處理：多個工藝方案，可修改并記錄，使用數據可記錄
保護裝置： 低液位報警，HMDS藥液泄漏報&警，超溫保護并斷開加熱，超溫保護，漏電保護，過熱保護等
涂膠
作用:a.轉移掩模版圖形到襯底的介質b刻蝕工藝中保護襯底;實現方法:浸泡、旋轉、噴霧、刷膠等:
前烘
b.蒸發溶劑;作用:a.增強粘附性實現方法:真空熱板85~120C處理。
曝光
作用:將掩模版圖形轉移到襯底表面;實現方法:接觸式、接近式、投影式。
后烘
作用:a.減少駐波效應
b.使光刻膠更易溶于顯影液:實現方法:熱板或烘箱等110-130C處理。
顯影作用:去除(未)曝光膠膜,保留圖形實現方法:浸泡、旋轉浸泡、旋轉噴霧
堅膜
作用:a.進一步減少駐波效應
b.進一步增強抗刻蝕能力;實現方法:熱板或堅膜烘箱等100-130C處理
